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RTP, Rubidiumtitanylphosphat, RbTiOPO4
• Hohe Homogenität
• Ausgezeichnete interne Qualität
• Hoher elektrischer Widerstand (1011 Ω·m)
• Großer Temperaturbereich (von ‐50◦C bis +70◦C)
• Höchste Qualität der Oberflächenpolitur
• Präziser Paarabgleich
• Konkurrenzfähiger Preis
• Massenproduktion, schnelle Lieferung
RTP-Kristalle werden häufig für elektrooptische Anwendungen verwendet , wenn niedrige Schaltspannungen erforderlich sind. z.B. im Laser-Q-Switching-System mit hoher Frequenzwiederholung, hoher Leistung und geringer Pulsbreite. RTP E-O-Geräte werden nicht nur in der Lasermikrobearbeitung und Laserentfernung eingesetzt, sondern aufgrund ihrer hervorragenden umfassenden Leistung auch in großen wissenschaftlichen Explorationsprojekten.
Da RTP von 400 nm bis 3,5 µm transparent ist, kann es in mehreren Lasertypen wie dem Er:YAG-Laser bei 2,94 µm mit ziemlich guter Effizienz verwendet werden. Massenabsorptionsmessungen bei 1,064 µm reichen von 50 bis 150 ppm unter Verwendung eines photothermischen Common-Path-Interferometers. RTP hat eine hohe Oberflächenschadensschwelle von 15 J/cm² (1064 nm, 10 ns, 10 Hz).
Maßtoleranz |
± 0,1mm |
Winkeltoleranz |
< ± 0,25° |
Ebenheit |
< λ/8 bei 632,8 nm |
Oberflächenqualität |
< 10/5 [S/D] |
Parallelität |
< 20" |
Rechtwinkligkeit |
≤ 5' |
Fase |
≤ 0,2 mm bei 45° |
Übertragene Wellenfrontverzerrung |
< λ/8 bei 632,8 nm |
Klare Blende |
> 90 % zentraler Bereich |
Glasur |
AR-Beschichtung: R<0.1% @ 1064nm |
Laser-Schadensschwelle |
600 MW/cm 2 für 1064nm, 10ns, 10Hz (AR-beschichtet) |
